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产品描述
| 参数项目 |
技术指标 |
| 设备型号 |
SCML320A |
| 设备尺寸 |
4650*1450*2690mm |
| 生长速率 |
≥60um/h |
| 背景浓度 |
≤1E+14cm+3 |
| 膜厚生长 |
1~100μm |
| 温控精度 |
±0.1℃ |
| 缺陷 |
＜0.2cm-2 |
| 掺杂均匀性 |
<2.0% |
| 膜厚均匀性 |
<1.0% |
| 粗糙度 |
<0.2nm |
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